搜索
在線客服
客服熱線
010-84195588
客服組:
在線客服
服務時間:
8:00 - 24:00
>
>
PULSION 等離子浸沒式等離子注入設備

相關視頻

PULSION 等離子浸沒式等離子注入設備

沒有此類產品
功能概述
技術指標
安裝條件

技術特色

◆超低能量、超高劑量:能量低至20eV(Option)、劑量1E14-1E18 at/cm3

◆占地面積小,節省空間:占地面積比普通的線束離子注入節約50%

◆易于工藝整合:兼容標準的PR剝離,可靠的計量控制,沉積和刻蝕控制,

◆無能量污染

◆更靈活:適用范圍廣,從小樣片到300mm的晶圓, 同時適用于3D結構樣片

 

應用舉例

◆S/D 或 多晶硅摻雜(DRAM、FLASH)

◆3D摻雜:如FINFET、溝槽

◆大功率器件的背接觸摻雜

◆CMOS圖像傳感器、光電二極管、UV探測器

◆太陽能電池:可提高電池的轉換效率

◆材料的表面處理:如增強材料表面的硬度、附著力、抗腐蝕及耐磨性等

◆材料改性:如硅納米晶合成、滲氮、氫化

未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
暫未實現,敬請期待
暫未實現,敬請期待
雙擊上傳視頻
聯系我們
電話:
傳真:
010-84195225
E-mail:
地址:
北京市東城區安定門東大街28號雍和大廈C座508-510室
九游会在线官网